第118章 鸿蒙光刻机首测！允许100nm的误差，你竟然去了个0？莫向南的震惊！（1 / 2）

第118章鸿蒙光刻机首测！允许100nm的误差，你竟然去了个0？莫向南的震惊！【求自订！】

从沙子到芯片。

要经历硅熔炼-硅晶桩-切割-剖光-晶圆-沉积-涂胶-光刻-显影-刻蚀-清洗...3D结构-硅片测试-切割-封装测试等一系列环节。

整个芯片制作的过程，是一个巨大的产业链~。

这其中有着非常-多繁复的环节。

而光刻是其中的一环，是技术难度极高的一环。

也是一直限制着国内芯片事业发展的重中之重。

毫不夸张的说。

光刻机是世界工业体系百年积累的结晶，整个机器需要三万余个零件，每一个零件都不能有丝毫偏差，一丝一毫的偏差都不能使千万的电路一丝不乱，毫无偏差的分布在指甲盖大小的芯片上面。

制作一枚芯片。

首先要做的。

就是制作一个晶圆薄片。

如果用打印来形容整个工作。

那么晶圆就是其中承载笔墨的空白纸张。

光刻，就是用光刻机在这张纸张上打印出完整的电路来。

其中晶圆加工和氧化就是为了获取一个完整的，表面整洁并且拥有一个氧化保护膜的晶圆而设计的。

晶圆的加工是非常精密的。

要求更是达到了纳米级别，这还只是芯片制作工艺中最简单的一步。

随着沈飞的指令下达。

顿时，早已安装调试到位的生产线，开动了起来。

对于系统出品的设备，沈飞自然是没有一点担心的。

但是除了他之外。

此时其他所有人都在紧张地看着生产线的前两个步骤。

虽然晶圆可以使用成品。

但是按照沈飞的芯片制作工艺完整性的要求。

就连晶圆都是芯禾自己着手制作的。

...

经过一番工艺流程。

一片片完整的晶圆出现在众人面前。

通过生产线，专业的机器对其进行了审核。

一片晶圆的设定参数厚度在0.670mm左右，误差不得大于纳米。

而仪器的检测数据，也会精确到纳米之间。

这会。

莫向南瞪大了双眼，看着眼前的仪表盘。

成败在此一举！

很快。

五组测试数据出炉！

mm！

看到这个数据，莫向南有些呆住了。

他是被震惊到了。

他甚至都怀疑是不是仪器出了问题。

纳米级别的精确度测试，偏差居然全部都是0！

这说明，这些晶圆的误差已经完全小于测试的可监测范围内了！

允许100nm的误差，结果呢，连10nm都没有！

看着眼前的设备，莫向南的眼睛都要瞪出来了！

这么高精度的晶圆生产设备，哪怕是国外那些顶尖的芯片生厂商也做不出来啊！

呼...

呼...

莫向南深吸了几口气。

现在还不是激动的时候，最主要的步骤还在后面。

一片芯片能否制作成功，关键还要看光刻机...

光刻机，才是重中之重！

...

光刻。

可以理解为通过光线将电路图案“印刷”到晶圆上。

其中电路图案的精细度越高，成品芯片的集成度就越高。

而一台光刻机，可以说是集合了所有人类最顶尖科技的成品科技设备。

没错，是整个人类！

国内为什么制作不出高精度的光刻机，那是因为很多技术都被人卡了脖子。