第243章 帮高能物理研究所（1 / 2）

这个会议是关于自由电子激光装置的建设部署会，在年底前要求完工。

自由电子激光装置是目前高能物理研究所的重点研究项目，绝大多数设备都已经完成制造，不过在一些小细节还没有解决，比如精密的位移动作用的轴承。

而这些轴承目前进口的过程太漫长，为了按时完成实验，他们想到了在国内寻找替代方案。

从需求的四十三个大大小小的轴承来看，大都需要定制，而且精度要求还比较高，目前国内的确没有替代方案，如果从外国定制进口，最终到货，估计也是明年的事情了。

李树在看完技术资料，听完要求之后，平静道：“京钢轴承方面应该能完成，设计图我待会儿会拿出来，今天就开始定制生产，下周出货。”

会议上的人纷纷惊呼不可思议，袁哲才打断道：“还真别议论，咱们李总还真有这个能力，他的数控机床技术是全国第一，我相信能够达到要求。”

得亏袁哲才对李树知根知底，之前研究光刻机项目的时候跟着部委考察团来过振蓝，他才有信心对李树说这样力挺的话。

“李总，早就准备想着找你去解决轴承的事情了，不过咱们研发组大多数人一直迷信要进口外国轴承，我也不好多说什么，你今天一来，给我吃了颗定心丸。”袁哲才拍着李树肩膀道。

“没有啦，咱们都是互惠互助的啦，我今天也是有事相求。”

李树随后道出了深紫外光光刻机光源测试与改良的事情，同时李树还提出和高能物理研究所联合研发下一代极紫外光光刻机光源的设想。

李树随即开始介绍EUV光刻机光源的指标

目前深紫外光EUV光刻机的光源需要足够大的功率来生成EUV光需要采用激光等离子体的方式，原理是用准分子激光轰击靶材产生EUV。

对准分子激光的要求很高，如带宽、输出功率、稳定性、维护难易度、波长、相对波长稳定性、脉冲与脉冲之间的能量稳定性、成本、安全性等等，最关键的是如何在高重复频率下保持窄带宽和无碎屑。

所用靶材对于EUV光源也非常重要，要能承受不间断的全天候的准分子激光器发出超高频脉冲轰击，还要求极小的碎屑尺寸和超低成本。

李树的设想里，将采用液滴靶技术，液体锡从上向下滴落过程中会形成锡珠，用激光轰击锡珠让其化为等离子态，产生EUV。

这些从数据库里检索出来的未来EUV光刻机光源技术在九十年代的人听起来，很玄乎，甚至有些科幻，从设计上来说，这个EUV光刻机的光源部件，零件将超过十万个，如果达到2022年的水平，这个部件的零件将超过四十万个，是一个骇人的指标。

正当李树说得起劲的时候，袁哲才打断道：“得，李总，今天用嘴聊的我都快听不懂了，回头你形成书面材料，我让咱们研究所立项，你派人来共同研发。”

袁哲才随后带着李树去了自由电子激光装置，让李树看看所需轴承在装置上的具体位置。

李树拿着研究所提供的各种测量设备在高大上的设备上一番测量，数据已经了然于胸。

正当李树要离开的时候，袁哲才叫住李树道：“嘿，李总，碰巧他们开机测试，要不要看看这国内首创的实验，平日我俩讨论再多，也不如看一次实验。”

经过袁哲才介绍，李树了解到电子束经加速管加速到30meV左右注入由周期永磁铁构成的波荡器。

在波荡中，在谐振腔中产生谐振，后继的电子束与先前电子束产生的光脉冲不断地发生能量转换，使光信号获得最大的增益直至饱和，最终通过反射镜的耦合输出到光学测量台。